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  • 半導體手套箱

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半導體手套箱

發布時間 : 2020-09-24 07:55
 

控 製:水、 氧小於1ppm(純化係統氣體出口)。
調節裝置:通過PLC觸摸式調節(加熱、 抽空、 淨化、 再生)全過程無需人為監控。
工作氣體:N2或Ar(氣體循環)。
循環風機:高速變頻鳳機,流量0-10Qm3/h,微處理器控製,經過壓力測試的不鏽鋼裝置。
雙淨化桂:德國BASF除氧材料,美國UOP高效吸水材料。(選配)

淨化閥:德國Burkert,全自動電氣動閥。 模塊化設計。
再生係統:用於淨化係統再次利用,使其活化;再生需要N2/H2或A曠H2的混合氣體,真中H2占5-10%。顯示係統:控製單元采用PLC觸摸屏,操作菜單:中文。
真空係統:自動氣控電鍍板;真空泵選用英國Edwards 真空泵(與烤箱公用泵型號可選)


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